Yarıiletken
heteroyapı, iki veya daha fazla yarıiletken substanstan (malzeme) yapılmış
yapay yapıdır; en önemli rol transistör tabakasındadır, yani iki substans
arasındaki sınırdadır.
Yarı iletken
heteroyapılar, II-VI. gruplara ait elementlerden (Zn, Cd, Hg, Al, Ga, In, Si,
Ge, P, As, Sb, S, Se, Te), AIIIBV bileşikler ve ve
bunların katı çözeltileri ve AIIBVI bileşiklerden oluşur.
AIIIBV bileşiklerinin en çok kullanılanları GaAs ve GaN, katı
çözeltileri AlxGa1-xAs’dir. Katı çözeltilerin
kullanılması, adım-adım (step-by-step) yerine sürekli kompozisyon değişikliği
ve dolayısıyla bant aralığının (gap) sürekli değişimi ile hetero-yapıların
yaratılmasını sağlar.
Hetero yapıların
üretiminde temas eden iki bileşiğin (substanslar) latis parametreleri arasında
mutabakat (yakınlık) sağlanması önemlidir. Çok farklı latis sabitlerine sahip
iki bileşik tabakası birbiri üzerinde büyütüldüğünde kalınlıklarında bir artış,
büyük deformasyon oluşumuna ve arayüzde epitaksiyel dislokasyona neden olacaktır.
Heteroyapıların üretiminde genellikle, AlAs-GaAs sistemi katı çözeltilerin
kullanılmasının nedeni budur; çünkü alüminyum ve galyum arsenitler hemen hemen
aynı latis parametrelerine sahiptir. Bu durumda, GaAs'ın tek kristalleri, heteroyapıların
büyümesi için ideal bir substrat oluşturur. Bir başka doğal substrat da,
GaAs-InAs, AlAs-AlSb, vb. gibi katı çözeltilerle birlikte kullanılan InP'dir.