Pulslu Lazer Depozisyon (pulsed laser deposition)

Pulslu lazer depozisyon (PLD), pulslu lazer ışını ve hedef malzeme etkileşim ürünlerini, vakumda (ablasyon) bir substrat üzerinde yoğunlaştırarak filmler ve kaplamalar elde edilmesidir.

Pulslu lazer depozisyon (çöktürme) yöntemi bir grup fiziksel buhar çöktürme yönteminden biridir. Yüksek enerjili bir lazer pulsunun (darbesinin) hedef malzeme ile etkileşimiyle elektronlar, iyonlar ve nötr partiküller ile hedef malzemenin katı mikropartikülleri (malzemenin flaşla buharlaştırılması sırasında çıkan) de dahil olmak üzere çeşitli ürünler oluşur. Bu partiküllerin daha fazla harekete geçmesi ve enerjiyle dağılımı, yalnızca lazer pulsların şiddetine, süresine ve frekansına değil aynı zamanda reaksiyon bölmesındeki basınca da bağlıdır. Yüksek vakumda lazer ablasyon (çıkarma), yüksek oranda yüklü partiküllerle dar bir ürün pütürünün oluşumuna neden olur. Bu şartlar altındaki film üretiminde önemli rolü, yüksek yüklü partiküller tarafından kondensatın ikincil olarak püskürtülmesi prosesi oynar.

Aksine, bölmedeki basınç artarsa, ablasyon ürünü bulutu ağırlıklı olarak nötral partiküllerden oluşur; özellikleri düşük basınçlı buhar özelliklerine yaklaşır.

Bu koşullar altında kaliteli film ve kaplamalar üretmek, bir takım malzemeler için başarıyla çözülmüş olan karmaşık bir bilimsel ve teknik problemdir. Lazer ablasyonun ana avantajı, her şeyden önce, filmlerin katyon stokiyometrisinin hedef malzemenin bileşimine uygunluğudur; bu durum diğer birçok yöntemde ciddi zorluklara neden olur ve çok bileşenli malzemelerin depolanmasında özellikle önemlidir. Ablasyon ürünlerinin kondensasyonunda yüksek derecede süperdoymuşluk, substratın yüzeyi boyunca şiddetli çekirdekleşmeye yol açar ve filmde yüksek morfolojik homojenlik sağlar. Metot, aynı zamanda, yüksek kristallikte filmlerin üretilmesine izin veren diğer ince film yöntemlerine kıyasla çok yüksek bir çökelme oranı ile karakterize edilir. Önemli bir faktör, küçük demet genişliğinden kaynaklanan hazne ve yardımcı cihazların malzemeri tarafından film kirlenmesinin, neredeyse tamamen yokluğudur. Vakum odası dışındaki emitterin konumu, depozisyon sırasında gaz atmosferinde geniş-aralıklı değişiklikler yapılmasını sağlar.

Metodun dezavantajları, ablasyon ürünlerinin çaplarının küçük olmasından dolayı, vakumlu ablasyonda homojen çökelme alanının küçük geometrik boyutu ve filmin, yüksek ergime hızlarında, ergimiş hedef malzemenin partikülleri ve damlacıkları tarafından kirlenme olasılığıdır.



Bir PLD (pulslu lazer depozisyon) sisteminin şematik görünümü