İndüksiyon plazma sentezitle nanometrik
malzeme üretiminde, fiziksel proses ve kimyasal kimyasal olmak üzere iki yöntem
kullanılabilir.
Fiziksel proseste, malzeme plazmada
buharlaşıncaya kadar ısıtılır ve elde edilen buharlar kuenç
(söndürme)/reaksiyon bölmesinde hızlı bir söndürme işlemine tabi tutulur ve
reaktörde ince bir aerosol formunda homojen çekirdeklenme oluşur.
Kimyasal proseste, bir veya daha fazla gaz
halindeki reaktant, plazma reaktöründeki malzemeden çıkan buharla reaksiyona
girer ve reaksiyon ürünü nanopartiküller formda yoğunlaşır.
Oluşan nanometrik tozlar, plazma reaktörü
dışındaki poröz filtrelerde toplanır. Metal tozları yüksek reaktiviteye sahip
olduğundan, toplanan tozun işlemin filtreleme kısmından çıkartılmasından önce
toz pasifikasyonuna dikkat edilmelidir.
RF plazmada nanotoz oluşumu
