İyon iz nanoteknoloji,
partiküller veya ağır iyonlarla ışınlama (bombardıman) yoluyla substanslar
ve malzemelerde dar kanallar (izler) oluşturma metodudur.
Radyasyon hasarı, lokal ergime, amorflaşma ve malzemenin
tahrip edilmesi ile 5-10 nm çaplı düzensiz bir bölge içeren izlerin ortaya
çıkmasına neden olur. İzler boyunca oluşan bölgeler, düzgün gözenek dağılımlı
bir membran oluşturmak üzere seçici olarak kazınabilir (etched) (Şekil). İçi
boş iz bölgeleri, galvanik depozisyon yöntemiyle çeşitli metallerle
doldurulabilir. Örneğin, polimer filmlerin kripton iyonlaryla (Kr+),
210 MeV enerji ile ışınlandırılması, sonra oluşan bu izlerde, elektrokimyasal
olarak bakır çöktürülmesi, ve polimer matrisin alkalide çözülerek uzaklaştırılması
yoluyla bireysel (tek tek) nanoter üretilebilir. Keza, mikrodalga filtreler
olarak kullanılan metal mikro-fırçalar (katı bir substrat üzerinde nanotel
yapılar) üretmek de mümkündür. Bu durumda, polimer filmin bir yüzeyine önceden
ince bir metal tabakası (bakır, nikel) püskürtülür, daha sonra filmin diğer
yüzüne ışın uygulanır; metal, oluşan izlerde elektrokimyasal olarak çöker,
polimer ise çözülerek uzaklaştırılır. Katılardaki yüksek hacimli iz
konsantrasyonu, modern integre devrelerde elde edilen yoğunluğa kıyasla önemli
ölçüde daha yüksek yoğunluklu nanoyapılar yaratmaya olanak tanır.
İyon iz teknolojisi kullanılarak üretilen bir membran modeli
