Maske (veya, projeksiyon
maske), üzerinde topolojik bir paternin opak görüntüsünün, ve ayrıca paterninin
dışında ışına transparan (şeffaf) alanların bulunduğu katı bir levhadır (pozitif
proses); negatif proseste topolojik desen şeffaftır.
Maske, mikroelektronikte fotolitografi prosesinin en önemli
elementlerinden biridir. Fotolitografi, bilgisayar-kontrollü bir makine (stepper)
vasıtasıyla, bir wafer üzerine bir devre paterni uygulamada kullanılır. Amaç, etken
maddenin, fotorezist tabaka altına yerleştirilen bir oksit film ile kaplanmış
yarıiletken wafere erişmesini sağlamak için, fotorezist tabakada belirli bir
konfigürasyonda ‘pencereler’ yaratılmasıdır. Bu pencereler, fotorezisti
ultraviyole lazer radyasyon maruz bırakarak oluşturulur. Pencerelerin
konfigürasyonu maske tarafından belirlenir; maskeyi uyguladıktan sonra ortaya
çıkan patern, maskenin yarattığı deseni devrenin gereken boyutuna indirgeyen
özel bir lens sistemi kullanılarak odaklanır. Lens sisteminin altındaki bir
konumlandırma masasında bir silikon wafer bulunur; tablanın hareketiyle wafer
üzerindeki tüm mikroişlemciler art arda işlem görür. Ultraviyole lazer
ışınları, maskenin açık alanlarından geçer, gofretin karşılık gelen alanındaki
ışığa duyarlı katman çözünebilir hale gelir ve organik çözücülerle
uzaklaştırılır.
Fotolitografi yoluyla katı bir kalıp (master) üretimi
