Kimyasal buhar depozisyon (CVD), ince filmlerin ve tozların
yüksek sıcaklık dekompozisyon reaksiyonlarıyla; ve/veya gaz öncüllerin bir
substrat üzerinde (ince filmler) veya bir reaktörde (tozlar) etkileşim
reaksiyonlarıyla elde edilebildiği prosesleridir.
Kimyasal reaksiyonların nasıl başlatıldığı ve proses
koşullarına (basınç, substrat bölgesine buhar transportasyon, v.s.gibi) bağlı
olarak çok çeşitli CVD metodu vardır. Kural olarak, kullanılan öncüller, düşük
sıcaklıklarda (100-400 0C, metal klorürler, organometalik
kompleksler) yeteri kadar yüksek buhar basıncı olan bileşiklerdir. Bu metotla
yüksek kaliteli filmler üretmenin esas şartı, gaz hızı ve öncül buharlaşma hızı
kontrolünde yüksek doğruluktur.
