İnterferens litografi (veya holografik litografi), kompleks
optik sistemler veya fotomasklar olmadan bir malzemenin ince özelliklerini
sergileyen paternlerin elde edilmesinde kullanılan bir tekniktir.
Holografik
interferens (girişim) litografide, bir substrat üzerindeki ‘koruyucu (buna
resist veya direnç deniyor)’ tabaka lazer demetlerine veya ultraviyole
ışınlarına veya sinkrotron X-ışınlarına maruz bırakılır (pozlandırılır).
Holografik litografide ışınlandırılacak substrat (resist
tabakalı), iki veya daha fazla ışın demetinin olduğu girişim bölgesine konur;
uygulanan optik, ultraviyole veya X-ışını dalgalar sonucunda direncin yüzeyinde
bir girişim paterni oluşur. Direnç maskenin pozlandırılması, develope edilmesi
ve diğer işlemleri sonunda periyodik veya kuasiperiyodik yapıda bir imaj ortaya
çıkar. Işınlandırılmış latisin periyodu dalga boyunun yarısına kadar olabilir.
Holografik interferens litografiyle elde edilen latısler, X-ışını görüntüleme
için difraksiyon veya odaklama elementleri olarak ve ayrıca, karakteristik
boyutları 1-10 nm olan nanoelektronok cihazların elementleri olarak da
kullanılabilir. (Bak. Litografi)
Holografik litografi; girişim
(interferns) lazerle maskesiz patern oluşturma
