Elektron Demet Litografi (electron beam lithography)

Elektron demet litografisi, direncin bir elektron demeti ile pozlandırıldığı litografik proseste kullanılan elektronik devreler teknolojisidir. İki elektron demet litografi sistemi vardır; tarama litografisi ve projeksiyon litografisi.

Taramalı elektron demet litografide direnç, desen düzleminde sürekli olarak hareket eden odaklanmış bir elektron demetine maruz bırakılır (taranır). Elektron demeti, önceden tanımlanmış bir programa göre bir bilgisayar tarafından kontrol edilir; bu nedenle şablonlara veya maskelere gerek yoktur. Bununla birlikte görüntünün böyle ardışık taranması pozlama süresini arttırır.

Projeksiyon elektron demeti litografisinde geniş bir odaklanmamış elektron akışı, görüntünün tamamını bir pozlama ile elde etmek için kullanılır. Bu sistemde, fotokatot belirli bir model optik maskenin yüzeyinde bulunur. Ultraviyole ışınları fotokatot tabakasını bir maske boyunca ışınlar ve bu da görüntünün ışınlanmış bölgelerinde fotokatodtan gelen elektronların emisyonuna neden olur. Bu elektronlar, homojen elektrostatik ve magnetik alanlar kullanılarak direnç yüzeyine yansıtılır. Sonuçta görüntü, bir pozlamayla substratın tüm alanı üzerinde oluşturulur. (Bak. Litografi)


Elektron-demet litografi (a) projeksiyon sistemi ve (b) tarama sistemi (KM: kondenser mercekler, PM: projeksiyon mercekler, RM: redüksiyon mercekler)