Anotlama, metaller,
alaşımlar ve yarıiletkenlerin elektrokimyasal yüzey oksidasyonudur.
Aluminyum, titanyum,
tantal, niobyum, silikon, germanyum ve galyum arsenid anotlama yaygın bir
teknolojidir. Normalde anotlama, galvanostatik veya potansiyostatik modda sabit
bir akımda yapılır.
Elektrotların
bulunduğu ortama (oksijen-içeren) göre değişik anotlama prosesleri vardır; sulu
elektrolit çözeltilerde anotlama, ergimiş tuzlarda anotlama, plazma anotlama ve
plazma elektrolitik oksidasyon.
Sulu elektrolit
çözeltilerde anotlama, elektronik endüstrisinde kapasitörlerin üretinde yaygın
olarak kullanılmaktadır (elektrolitik, oksit-yarıiletken, metal oksit)
Ergimiş tuzlarda
anotlama, özellikle bakır ve demir yüzeylerde, kalın ve sert (mikro sertlikte)
oksit filmler hazırlamak için kullanılır.
Plazma anotlama,
mikroelektronikte yaygın olarak kullanılmaktadır; çünkü proses, integre vakum
prosesinin diğer operasyonlarıyla teknolojik olarak uyumludur. Diğer kullanım
alanları arasında tünelleme cihazlarıyla (Josephson elementleri, metal baz
triyodlar, optoelektronik bileşenler) ile ince film bileşenlerin imalatı,
kapasitörlerde dielektrik tabakalar, integre devrelerin yüzey pasifleştirilmesi
ve bileşenler arası izolasyon sayılabilir.
Anodik alüminyum
oksit filmler (Şekil-1) yüksek termal, mekanik ve kimyasal stabiliteye, eşsiz
bir gözenekli yapıya (kontrollü çaplı düz gözenekler) sahiptir. Bu
özellikleriyle; filtrasyon ve karışımların ayrılması, veri depolama, sensörler
ve tek boyutlu (1D) nanoyapıların sentezi gibi çeşitli uygulamalarda kullanılan
cazip malzemelerdir.
Anotlama, elektrokimyasal
dönüşüm ile üretilir. Bir anotlama prosesinde, anotlanacak malzeme uygun bir
elektrolitte anottur. Elektrolitten geçen elektrik akımı ile, metal yüzeyi bir
oksit formuna dönüştürülür (Şekil-2).
Şekil-1: Anodik alüminyum oksit filmler
Şekil-2: Bir anotlama prosesi
